國產化率是難以精確統計的，判斷國產化率，我們主要通過國內晶圓廠公開的招標數據進行測算，這些數據是有很強的代表性。

　　設備三大件，光刻、刻蝕和薄膜沉積占半導體設備的市場份額超過60%，今年總的招標數超過440臺，其中光刻機招標20臺，刻蝕機170臺，薄膜沉積設備招標254臺。

　　檢測、清洗、拋光研磨、離子注入等設備合計招標556臺，總的前道設備招標數剛好1000臺，這是晶圓廠半導體設備公開招標的總體情況。

　　招標的晶圓廠和IDM主要有長江存儲、中芯紹興、華虹半導體、華力微電子、華潤微、積塔半導體等等，其中長江存儲的前道設備招標數是*多的，達到了365臺，具有代表性，而大廠中芯國際公開的信息比較少，所以參考意義不大。

　　從中標的設備公司來看，北方華創的所有產品線臺。此外，中微公司中標6臺，其中5臺干法刻蝕，1臺MOCVD，芯源微涂膠顯影設備中標9臺，盛美半導體中標13臺清洗機，上海微電子中標1臺光刻機，屹唐半導體中標18臺去膠設備。

　　通過以上的晶圓廠招標和設備廠中標數據，我們從國內主要的12寸晶圓產線以及主要晶圓廠兩個角度來看國產化率的變化。

　　統計在內的長江存儲、華虹無錫、合肥晶合、上海華力二期4條12英寸晶圓產線的國產化率大致如下：

　　其中長江存儲*高，超過15%，合肥晶合*低，國產化率3%，這四條12英寸生產線%。

　　從具體的設備來看，4條產線國產化程度*高的是去膠設備，國產化率達到82%，拋光研磨、清洗設備、熱處理、刻蝕機和PVD的國產化率均在20%以上。

　　從數據來看，12種細分設備有6種國產化率在20%以上，看上去是不錯的數據，但是，價值量*高的光刻機、刻蝕機、薄膜沉積國產化率總體很低，刻蝕機情況稍微好一點，總體達到20%的國產化率。

　　薄膜沉積雖然PVD達到20%，但PVD只占薄膜沉積設備市場的20%，而市場更大的CVD，國產化率只有3%，光刻機現在只能說勉強的零突破。

　　我們設備的國產化目前主要集中在價值量相對較低的部分設備，而價值量高的設備，國產化率不樂觀。

　　我們從統計在內的晶圓廠的國產化率來看，長江存儲的設備國產化率穩步提高，占比越來越大，今年已經超過20%；國產化率*高的是上海積塔半導體，國產化率達到46%，今年提升12.7個百分點，今年國產化率相對較低的是上海華力和中芯紹興，相對歷史數據有所下滑。

　　其中長江存儲的招標數*大，今年招標數占已公布招標總數的36%，具有很強的代表性，總的來看，晶圓廠的設備國產化率在逐步提升。

　　芯片制造主要的八種設備中，除光刻機以外的其它設備基本上都推進到28nm節點，其中刻蝕、熱處理和離子注入的部分設備技術節點已經突破了14nm，甚至推進到7nm、5nm。

　　從技術節點看，我們國產設備跟國際*先進的設備代差約為3-4代，等到更先進的光刻機出來之后，理論上我們似乎能夠得出結論，28nm及以上的成熟工藝，可以實現全國產替代。

　　但實際差距會比理論上來得更大，因為圖表中的數據只能說產品觸及到了28nm，但產品豐富程度，滿足不同的應用，實現里28nm還有不小距離。

　　以刻蝕機為例，長江存儲已經公告中標的，涉及刻蝕工藝類別就多達80-90種，而中標*多的拉姆研究，僅刻蝕機一個品類，供應的設備多達40種不同工藝。

　　雖然說國產廠商華創主攻硅刻蝕和金屬刻蝕，中微主攻介質刻蝕，且都取得了突破，但從中標數據來看，華創和中微的產品線跟拉姆研究還有不小的差距，雖然技術節點滿足，但產品相對比較單一。

　　國外的設備商像設備超市，國內的設備商像商店，這是技術節點以外產品線的差距。

　　以應用材料為例，近十年來每年的研發投入保持在營收的15%左右， 2019 財年研發投入約***.5億人民幣，而北方華創2020年研發投入6.7億元，營收60.56億元，應用材料同期營收約1118億人民幣。

　　這兩年我們也看到國產半導體設備廠商通過定增募資積極擴產，加大研發投入，追趕國際巨頭，今年上半年，北方華創研發投入14.96億元，同比增加308%。

　　客觀來說，國產設備廠商在規模、技術、研發投入方向跟國外巨頭有不小的差距，國產化率在提高，但并沒有大多數人想象得那么快，目前僅為15%左右。

　　不過，我們也看到很多積極的變化，國家在產業政策、資本市場、專業人才方面的大力支持，通過合理的布局，國內半導體設備行業逐漸形成了產業閉環和小的生態，所有的設備都有公司在做，內部競爭相對較小。

　　總的來說，國產替代是一條道阻且長的路，需要持續投入，步步為營，穩步向前，真正實現國產替代還需要更多時間。

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